像数据快速刷新在大屏之上。 当最终检测结果跳出的那一刻，团队成员呼吸同时停滞。 大屏幕上清晰显示—— 实测线宽：1.02nm 套刻精度：1.18nm 边缘粗糙度：≤0.45nm 微观缺陷数：0 轰！！！ 团队瞬间炸了！！！ “神呐！所有核心参数全部达到甚至超越国际商用1nm制程标准！！” “苏总研发的国产High NA EUV光刻机竟然成功了！！！” “OMG！太不可思议了吧！！谁能掐我一下！我不是在做梦吧？！！” 不是…… 成功了？ 安若素和安无恙两位门外汉相视一眼，对于不懂的人来说，连是否成功都无法分辨。