马宇腾用三个段落，勾勒出了2006年东大半导体设备产业的全貌。
光刻机领域：魔都微电子是唯一一家具备整机研制能力的企业，但其研发的分布式投影光刻机尚处于原型机阶段，制程水平停留在280纳米，与国际主流的90纳米量产水平相差三代以上。
核心零部件如光源系统、高精度物镜组、双工件台等，几乎全部依赖进口。
蚀刻机领域：东微半导体刚刚起步，第一代介质蚀刻机尚未完成全部验证测试。与国际巨头应用材料、泛林半导体的技术仍有不小的差距。
薄膜沉积和离子注入领域：国内没有任何一家企业具备成熟的研发能力。
三段话写完，马宇腾停了下来。
他盯着屏幕，手指悬在键盘上方。
议案的第三部分是建议措施。
这一部分他反复斟酌了很久。
太保守，等于白写。
太激进，会被认为不切实际。
最终他落笔，列出了四条具体建议。
第一，建议国家设立半导体设备专项研发基金，初期规模不低于五十亿元。这笔钱不撒胡椒面，集中投向光刻机、蚀刻机、薄膜沉积三个卡脖子环节。
第二，建议鼓励和支持国内科研机构与设备企业开展联合攻关。他特别提到了KBBF晶体在光刻机光源领域的应用潜力，建议科学院与魔都微电子建立协作机制，探索具有自主知识产权的全固态深紫外光源技术路线。
第三，建议制定半导体设备国产化替代时间表，要求国内芯片制造企业在采购设备时，优先考虑国产替代方案。
第四，建议放宽半导体设备领域的人才引进政策，对海外归国的高端技术人才，在户口、住房、科研经费等方面给予特殊支持。
写到第四条时，尹仕尧的面孔浮现在他脑海里。那个放弃了硅谷优渥待遇、带着三十多人回国创业的男人，现在还在张江的洁净室里，跟专利壁垒死磕。
这些人不该被亏待。
马宇腾把第七稿通读了一遍，又逐字逐句地修改了两个小时，然后发给陈闯天。
凌晨一点，手机震了。
陈闯天的短信回复发了过来：我觉得写得很好，应该会引起有关领导重视。
马宇腾放下手机，摘掉眼镜，用拇指和食指捏了捏鼻梁。
窗外，京城的夜色沉沉，长安街上的路灯排成一条笔直的光带，延伸向看不见的远方。