晶圆表面，在强光下泛着微光。
“整个工艺流程，从晶圆清洗、涂胶、曝光、显影、刻蚀，再到离子注入和金属化，我们都进行了大量的优化和验证。”
肖光楠说，“当前，良品率是最大挑战。实验阶段波动较大，但我们相信，随着工艺的进一步成熟和参数的精细调整，很快就能达到稳定量产的要求。”
马宇腾转头看肖光楠，眼神中带着考量。
“现在技术路径已全部跑通？”
“是的。”肖光楠肯定地回答。
“浸没式光刻是当前半导体先进制程的唯一道路。台积电已用事实证明了这点。我们的技术团队，包括从东芯国际交流过的工程师，都认为这个方向正确无误。”
马宇腾轻点一下头。
他走到一台检测设备前，屏幕上显示着晶圆表面的微观结构图，密密麻麻的电路图案，如同精密的迷宫。
“这些是初步测试结果。您能看到，90纳米的线宽已清晰可见。”
肖光楠指向屏幕，“尽管有些区域仍存在缺陷，但大部分结构都符合设计要求。”
马宇腾凝视屏幕，他明白，每个微小结构都凝聚着无数工程师的心血。
“良品率提升，预计需要多久？”马宇腾问。
“根据经验，至少还需要三到六个月。”肖光楠回答。
“这需要大量实验，持续调整工艺参数，优化设备性能。尤其在刻蚀和清洗环节，对良率影响最大。”
马宇腾没有立即回应，他在脑海中快速梳理着下一步的计划。
三到六个月，这个时间不可或缺。
他深知，技术突破初期，良品率是最大的拦路虎，也是最考验耐心的环节。
“肖总，你们与东芯国际的合作，效果如何？”
马宇腾问，他心知肚明当初派团队“偷师”的目的。
肖光楠脸上浮现出由衷的敬佩。
“非常成功。东芯国际在130纳米制程的量产经验，给了我们极大帮助。他们的工程师团队，在工艺整合和设备调试方面，确实有独到之处。”
肖光楠说，“我们的工程师团队，也从中学到了很多。特别是对成熟制程的理解和把控，提升了一个台阶。”
肖光楠稍作停顿，眼神变得更加坚定。
“马总，我有个提议。”
“既然我们与东芯国际的合作如此顺利，也尝到了合作的甜头。等我们90纳米制程良品率稳定后，可以继续深化