那里，将崛起一座洁净如雪的芯片工厂，
屋顶上，将竖起一行巨大的标语：“此处，刻写中国未来。”
对于现在的华夏来说，那还是相当激动。
但是，对于整个海外来说，感觉就不是这样了。
消息传到海外，不过六小时。
华尔街、硅谷、东京、埃因霍温——全球半导体圈炸开了锅。
中国怎么可能弄出领先于世界先进水平的光刻机？
最主要的是太魔幻。
在这之前是真的一点消息都没有。
短短半年内，一个此前从未掌握高端光刻技术的国家，突然宣布自主研发成功38nm浸没式光刻机，国际社会的第一反应绝不会是祝贺，而是震惊、怀疑、甚至嘲讽。
假的，都是假的。
2007年，全球最先进的量产工艺是65nm–45nm，这个技术还是掌握在Intel、台积电、三星手中。
浸没式光刻，是193nm DUV技术的延伸，2004年ASML才推出首台商用机，2007年仍属高端设备。
华夏弄出来，这根本就不可能。
埃因霍温，ASML总部，董事会紧急会议
深夜十一点，ASML总部灯火通明。
CEO彼得·温宁克面色阴沉地推开会议室大门，二十名高管已全部到齐。
墙上大屏正循环播放央视新闻片段：“我国首台38nm浸没式光刻机在京州研制成功……”
“荒谬！”首席技术官范德梅尔一拳砸在桌上：“他们连193nm光源都造不出来！Cymer垄断全球DUV激光源二十年，中国怎么可能绕过去？”
财务总监冷笑：“会不会是……我们某台退役设备被走私过去，他们翻新后贴牌？”
“不可能。”
供应链主管摇头，“所有出口设备都有唯一ID，海关记录可查。而且——那台机器用的是纯水浸没系统，而我们的TWINSCAN NXT:1950i用的是超纯氮气辅助冷却，结构完全不同。”
沉默片刻，温宁克缓缓开口：“不管真假，市场已经信了。今天港股中芯国际涨了17%，A股半导体板块集体涨停。”
顿了顿，他继续道：“我们必须立刻行动——向美国商务部提交紧急风险评估，要求全面针对对华所有光刻相关技术出口，包括二手设备、维修服务、甚至工程师签证