动接近式光刻机研制成功了，分步投影式光刻机生产出来了，光刻光源甚至已经达到了193纳米。 这一技术，仅比国际上最领先的，落后了四五年的时间，更是遥遥领先着阿斯麦。可以说，当时在光刻机技术上，咱们谁也不怵！ 然而，很可惜，光刻机的研发，也就到此为止了。 所有人都以为我们的、光刻机的辉煌征途刚刚开始，但谁也没想到，在那之后就开始陷入长达二十多年的落寞。 断了光刻机的自主研发之路，原因只有一个字：“穷”！